1.一种铌或铌合金表面低温制备钨功能涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，将基体表面抛光处理，所述基体包括铌、铌合金或其组合；

S2，将抛光后的基体埋入包埋渗剂中反应，其中包埋温度为200-300℃，保温时间为1-

10h，所述包埋渗剂包括均匀分散的WCl6粉、活化剂和Al2O3粉，且所述包埋渗剂中WCl6粉的比例为25-55wt.％，所述活化剂的比例为10-15wt.％，所述Al2O3粉的比例为30-65wt.％；

S3，保温结束后，清洗包埋后的基体并真空干燥。

2.根据权利要求1所述的铌或铌合金表面低温制备钨功能涂层的方法，其特征在于：所述活化剂包括NaF粉、NH4Cl粉或其混合物。

3.根据权利要求1所述的铌或铌合金表面低温制备钨功能涂层的方法，其特征在于：所述将基体表面抛光处理的步骤包括：S11，将所述基体设在研抛盘上，所述研抛盘上设有研抛垫，所述研抛垫的厚度为3-

3.5mm；

S12，在所述基体与所述研抛盘之间添加研磨液，所述研磨液采用磨料粒度为W0.5的金刚石研磨液，研磨液PH值约为10；以及S13，所述研抛盘转动对所述基体进行抛光，其中，时间为8-20min。

4.根据权利要求3所述的铌或铌合金表面低温制备钨功能涂层的方法，其特征在于：在步骤S13之后，进一步包括步骤S14，将抛光后的基体放入无水乙醇中进行超声波处理时间为5-30min。

5.根据权利要求1所述的铌或铌合金表面低温制备钨功能涂层的方法，其特征在于：所述包埋渗剂中WCl6粉的比例为35-45wt.％，所述活化剂的比例为10-15wt.％，所述Al2O3粉的比例为50-65wt.％。

6.根据权利要求1所述的铌或铌合金表面低温制备钨功能涂层的方法，其特征在于：所述清洗包埋后的基体并真空干燥的步骤包括：S31，先用超声波将所述包埋后的基体清洗干净，其中，超声波处理时间为5～30min，以及S32，在80-90℃温度下，真空干燥。

7.根据权利要求1所述的铌或铌合金表面低温制备钨功能涂层的方法，其特征在于：所述包埋温度为250-300℃。

8.根据权利要求1-7任一项方法获得的铌或铌合金复合金属材料，其特征在于：包括基体以及包覆在所述基体表面的钨功能涂层，所述基体为铌或铌合金，所述钨功能涂层中含钨量为2-20wt.％，余量为铌或铌合金。

9.根据权利要求8所述的铌或铌合金复合金属材料，其特征在于：制得的钨功能涂层的厚度为2-20mm。