1.一种铜离子选择分离膜，包括以下制备方法步骤：

(1)制备离子印迹介孔二氧化硅：

(a)制备溶液A：将模板离子Cu2+与功能单体3-氨基丙基三甲氧基硅烷或3-(2-氨基乙基氨基)丙基三甲氧基硅烷溶解在蒸馏水中，生成金属螯合物；

(b)制备溶液B：将交联剂十六烷基三甲氧基溴化氨溶解在蒸馏水中；

(c)制备离子印迹介孔二氧化硅：将溶液A和B混合并逐滴加入NaOH溶液和正硅酸乙酯，搅拌、静置，离心分离后得到的固体分别用盐酸-无水乙醇混合液、无水乙醇以及蒸馏水洗涤，经干燥得到离子印迹介孔二氧化硅；

(2)制备铸膜液：将步骤(1)得到的离子印迹介孔二氧化硅和致孔剂三嵌段共聚物F127分散到有机溶剂N，N-二甲基甲酰胺或N，N-二甲基乙酰胺中，逐步加入PVDF粉末，搅拌、脱泡，制得铸膜液；

(3)制备离子印迹膜：将步骤(2)得到的铸膜液倾倒于光滑洁净的玻璃板上刮制成液膜，然后置于凝固浴蒸馏水中固化得到膜。

2.根据权利要求1所述一种铜离子选择分离膜，其特征在于所述膜由65-75份PVDF和

25-35份介孔二氧化硅组成。

3.根据权利要求1所述一种铜离子选择分离膜，其特征在于所述膜膜孔粒径100-

300nm，孔隙率为90-98％。

4.根据权利要求1所述一种铜离子选择分离膜，其特征在于所述介孔二氧化硅为球形，粒径为100-500nm，介孔孔径为2-5nm，微孔孔径为0.1-0.5nm，位于膜孔内。

5.根据权利要求1所述一种铜离子选择分离膜，其特征在于所述介孔二氧化硅具有铜离子选择吸附能力。

6.根据权利要求1所述一种铜离子选择分离膜，其特征在于所述膜对铜离子吸附量大，选择吸附铜离子能力强，吸附解吸附速度快。

7.根据权利要求1所述一种铜离子选择分离膜，其特征在于所述膜为平板膜。