1.一种用于去除高分子化合物中低挥发物的装置，包括加热罐和吸收罐，其特征在于，还包括：所述加热罐为中空圆柱状结构，用于盛放高分子化合物，所述加热罐的外表面沿圆周向间隔设置有第一啮合齿和第二啮合齿，所述加热罐的罐壁中沿圆周向嵌设有多个环状电热片，所述多个环状电热片平行间隔设置，所述多个环状电热片均连接至电源，所述加热罐一端设有第一通孔；支架，其上部平行间隔设置有第一转轴和第二转轴，所述第一转轴上固设有第一齿轮和第二齿轮、所述第二转轴上固设有第三齿轮和第四齿轮，所述第一齿轮的位置与所述第三齿轮的位置对应，所述第二齿轮的位置与所述第四齿轮的位置对应，且所述加热罐置于所述支架上时所述第一齿轮和所述第三齿轮同时与所述第一啮合齿啮合，所述第二齿轮和所述第四齿轮同时与所述第二啮合齿啮合，所述第一转轴还与一马达动力连接，所述第一转轴旋转带动所述加热罐绕轴线作周期性旋转运动，在每个周期中，所述加热罐顺时针旋转360°，然后逆时针旋转360°；所述吸收罐两侧分别设置有第二通孔和第三通孔，所述第二通孔通过第一气管与所述第一通孔连通，所述第三通孔通过第二气管与抽气泵连通，所述吸收罐内部由所述第二通孔至所述第三通孔依次设置有第一滤板、第二滤板、第三滤板和第四滤板，所述第一滤板、第二滤板、第三滤板和第四滤板平行设置，且表面均开设有多个滤孔，所述第一滤板与所述第二滤板间填塞有氧化铝，所述第二滤板与所述第三滤板间填塞活性炭，所述第三滤板与所述第四滤板之间填塞有分子筛；控制器，其与所述马达连接，以控制所述加热罐每分钟旋转30-60个周期。2.如权利要求1所述的用于去除高分子化合物中低挥发物的装置，其特征在于，所述环状电热片的个数为五个，所述环状电热片的宽度为所述加热罐长度的1/30到1/20。3.如权利要求1所述的用于去除高分子化合物中低挥发物的装置，其特征在于，所述第一通孔为圆形孔，且与所述加热罐同轴，所述第一气管与所述第一通孔轴承连接。4.如权利要求1所述的用于去除高分子化合物中低挥发物的装置，其特征在于，所述第一滤板上的滤孔为三角形孔，所述第二滤板上的滤孔为正方形孔，所述第三滤板上的滤孔为圆形孔，所述第四滤板上的滤孔为细缝状孔，且所述第一滤板、第二滤板、第三滤板和第四滤板上滤孔的位置相互对应。5.如权利要求1所述的用于去除高分子化合物中低挥发物的装置，其特征在于，还包括：温度传感器，用于检测所述加热罐的内壁的温度，所述温度传感器还与所述控制器连接，所述控制器根据所述温度传感器检测的所述加热罐的内壁的温度使所述加热罐在第一工作状态、第二工作状态和第三工作状态间切换；所述控制器设置为：当所述加热罐的内壁的温度为45℃时，所述加热罐处于第一工作状态，所述加热罐每分钟运动30个周期；当所述加热罐的内壁的温度为60℃时，所述加热罐处于第二工作状态，所述加热罐每分钟运动45个周期；当所述加热罐的内壁的温度为75℃时，所述加热罐处于第三工作状态，所述加热罐每分钟运动60个周期。6.如权利要求1所述的用于去除高分子化合物中低挥发物的装置，其特征在于，所述加热罐的内壁沿所述加热罐的轴线方向设有多个凸棱，且所述多个凸棱在所述加热罐的内壁

均匀分布。7.如权利要求1所述的用于去除高分子化合物中低挥发物的装置，其特征在于，所述加热罐的外壁设有隔热层。