1.一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜制作工艺，其特征在于，包括如下步骤：（1）将第二种纳米二氧化硅醇溶液缓慢添加到第一种纳米二氧化硅醇溶液中，每添加

10 50克搅拌2 3分钟，全部混合后用超声波振荡仪振荡分散10 20分钟，第一种纳米二氧化~ ~ ~硅醇溶液与第二种纳米二氧化硅醇溶液的质量比例为3 6:1；

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第一种纳米二氧化硅醇溶液的纳米二氧化硅平均粒径为20 25纳米，二氧化硅固含量~为40 41%；第二种纳米二氧化硅醇溶液的纳米二氧化硅平均粒径为40 50纳米，二氧化硅固~ ~含量为30 31%；

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（2）配制含有硅氧键的改性有机硅结合剂加入到步骤（1）得到的二氧化硅醇溶液后搅拌10分钟并加入固化剂，超声波振荡分散30分钟，放在真空箱中真空去泡得到涂覆溶液，其中含有硅氧键的改性有机硅结合剂与二氧化硅醇溶液的质量比例为1:9；所述含有硅氧键的改性有机硅结合剂包括改性有机硅树脂和改性硅橡胶，改性有机硅树脂为环氧改性有机硅树脂、醇酸改性有机硅树脂、聚酯改性有机硅树脂或丙烯酸树脂改性有机硅树脂中的一种或多种，改性硅橡胶为聚氨酯改性硅橡胶，多巴胺改性硅橡胶或三元乙丙橡胶和甲基乙烯基硅橡胶的共混改性橡胶中的一种或多种，改性有机硅树脂和改性硅橡胶的质量比例为

5 10:1，所述的固化剂为二乙烯三胺、三乙烯四胺或三聚氰胺树脂，添加量为含有硅氧键的~改性有机硅树脂质量的0.5 3%；

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（3）对薄膜基材表面进行改性处理，薄膜基材厚度为5 10微米，表面改性处理包括电晕~处理和预涂层处理，预涂层厚度为1 5微米；

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（4）将步骤（2）得到的涂覆溶液使用涂布机均匀地涂布在步骤（3）得到的薄膜表面，磨粒涂层的厚度为5 30微米；制备得到涂覆薄膜；

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（5）得到的涂覆薄膜在真空烘箱中70℃固化1小时，裁剪后得到纳米二氧化硅抛光薄膜。

2.如权利要求1所述的一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜制作工艺，其特征在于，所述含有硅氧键的改性有机硅结合剂的配制方法为，按所需配比混合改性有机硅树脂和改性硅橡胶，100℃水浴条件下，使用均质分散机分散10 20分钟。

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3.如权利要求1所述的一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜制作工艺，其特征在于，步骤（3）中，所述的薄膜为高温聚酯薄膜，所述的 电晕处理，最终使薄膜表面张力达到55达因，预涂层处理为涂覆聚氨酯预涂层或环氧树脂预涂层。

4.如权利要求1所述的一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜制作工艺，其特征在于，步骤（4）中，所述的 涂布采用多层涂布法，每次涂布厚度控制在1 2微米并~室温下晾干1 2小时，最后涂层总厚度控制在5 30微米。

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5.如权利要求1所述的一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜制作工艺，其特征在于，步骤（5）中，所述的固化升温速度为5 10℃/小时，在70℃下保温1小时。

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6.一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜，其特征在于，由权利要求1 5~任一项所述的制备方法制备得到。