1.一种化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：由氟硼酸盐、纳米磨料、表面活性剂、无机酸和溶剂去离子水组成，各组分的质量百分比为：氟硼酸盐0.1-2wt%、纳米磨料

5-30wt%、表面活性剂0.01-2.0wt%、无机酸为调节抛光液pH值至3-7、溶剂去离子水为余量。

2.根据权利要求1所述化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：所述氟硼酸盐为氟硼酸钾、氟硼酸钠或氟硼酸铵。

3.根据权利要求1所述化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：所述纳米磨料为二氧化铈（CeO2）、二氧化硅（SiO2）、氧化铬（Cr2O3）和氮化硼（BN）中的一种或两种任意比例的混合物，其平均粒径小于100nm。

4.根据权利要求1所述化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：所述表面活性剂为聚乙二醇-400、脂肪醇聚环氧乙烯醚和聚环氧乙基烷烷基醇酰胺中的一种或两种任意比例的混合物%。

5.根据权利要求1所述化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：2.根据权利要求1所述化学机械抛光用纳米抛光液，其特征在于：所述无机酸为盐酸与磷酸或硫酸的混合液，盐酸与磷酸或硫酸的体积比为5：1-5。

6.一种如权利要求1所述化学机械抛光用纳米抛光液的制备方法，其特征在于：将氟硼酸盐、纳米磨料、表面活性剂、无机酸和溶剂去离子水按比例混合均匀即可。

7.一种如权利要求1所述化学机械抛光用纳米抛光液的应用，其特征在于：用于铪基材料的化学机械抛光，抛光速率为100-200nm/min，所述铪基材料为HfOx、HfON、HfSixOy、HfSiON、HfTiON、HfTaON和HfSiAlON中的一种或两种以上任意比例的组合。