1.在医用镁合金表面制备二氧化钛活性膜层的方法，该二氧化钛活性膜层的制备包括以下几个步骤：（1）对医用镁合金表面进行打磨和机械抛光处理，经丙酮和无水乙醇清洗后，烘干待用；（2）采用直流磁控溅射法在医用镁合金表面生长一层纯钛膜；（3）通过微弧氧化法在纯钛膜表面原位生长二氧化钛活性膜层；（4）生长后的活性膜层经去离子水和无水乙醇依次清洗，晾干；所述的医用镁合金为纯Mg、Mg-Al-Zn或Mg-Zn-Ca系列镁合金；

所述的磁控溅射用靶材为纯度不低于99.95%的纯钛；所述磁控溅射的工艺参数为：溅射气压0.3～0.6Pa，溅射功率30～150W，溅射时间5min～2h，溅射室的背底真空度优于-5

6×10 Pa，氩气流量20sccm；所述的纯钛膜薄膜的厚度为100nm～100µm；其特征在于：所述微弧氧化法是以长有纯钛膜的医用镁合金为阳极，不锈钢电解槽为阴极，采用直流单向脉冲电源对医用镁合金表面进行微弧氧化处理；所述微弧氧化的工艺参数为：正向加载电压范围200～420V，频率范围500～1500Hz，占空比30～60%，氧化时间2～10min；每升电解液由以下成分组成：10～15g/L硅酸钠，15～20g/L磷酸钠，2～4g/L氢氧化钠，其余为去离子水。